高精度真空鍍膜裝置，抽真空裝置包括真空泵和真空壓力傳感器，真空壓力傳感器設置于中央真空室內；新型高精度真空鍍膜裝置提高了鍍膜厚度控制精度，提高了產(chǎn)品加工工藝的重復性。真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)，在真空室內材料的原子從加熱源離析出來(lái)打到被鍍物體的表面上。其被廣泛應用于生產(chǎn)光學(xué)鏡片，如航海望遠鏡鏡片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空室中，加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，真空不銹鋼鍍鈦電話(huà)，入射到待鍍膜固體上，即襯底或基片表面，從而凝結形成固態(tài)薄膜的方法。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

PVD的意思是“物理氣相沉積”，這是指一種薄膜制備技術(shù)，該技術(shù)使用物理方法在真空條件下將材料沉積在要電鍍的工件上。PVD涂層技術(shù)主要分為三類(lèi)，真空蒸發(fā)涂層，真空濺射和真空離子涂層。對應于三類(lèi)PVD技術(shù)，相應的真空鍍膜設備還具有三種類(lèi)型：真空蒸發(fā)鍍膜機，真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。在過(guò)去的十年中，真空離子鍍技術(shù)發(fā)展迅速，并且已成為當今zui先進(jìn)的表面處理方法之一。我們通常所說(shuō)的PVD涂層是指真空離子涂層，PVD鍍膜機通常是指真空離子鍍膜機。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

PVD涂層（離子涂層）技術(shù)的具體原理是在真空條件下使用低壓，不銹鋼鍍鈦電話(huà)，大電流電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使目標材料蒸發(fā)并使氣化的物質(zhì)和氣體電離，裝飾不銹鋼鍍鈦電話(huà)，并利用電場(chǎng)加速功能，將蒸發(fā)的物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。PVD涂膜層的特性，采用PVD涂膜技術(shù)鍍膜的膜層具有高硬度，高耐磨性（摩擦因數），良好的耐腐蝕性和化學(xué)穩定性的特點(diǎn)，并且該膜具有更長(cháng)的壽命。同時(shí)，薄膜可以大大改善工件的外觀(guān)和裝飾性能?？赏ㄟ^(guò)PVD涂層電鍍的薄膜類(lèi)型，PVD涂層技術(shù)是一種環(huán)保的表面處理方法，可以真正獲得微米級涂層而無(wú)污染。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制